俄罗斯正在推进首台自主研发的350纳米光刻机的批量生产，计划于2026年12月将首台设备交付给莫斯科的Mapper公司。更为关键的是，俄罗斯已开始研发130纳米光刻技术，这可能开启其在半导体设备领域的更大进步。该国正在努力实现自主光刻机的商业化，标志着本土半导体设备产业的重要里程碑。

首台量产型“Progress STP-350”预计在2026年12月交付给Mapper公司，而第二台设备将提供给Element集团的“Industry Solutions”公司。泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯的Planar公司合作，开发了一种新系统以支持350纳米工艺节点的半导体生产。虽然350纳米技术相较于现今更先进的半导体工艺有所不足，但对工业电子产品、功率器件、汽车零部件和传感器等仍然至关重要。

首批量产设备的交付代表了从实验室研发到光刻系统大规模生产的成功转型。Mapper作为首个客户，隶属俄罗斯国家技术集团公司（Rostec），与Shvabe控股公司有协作关系。关于设备的定价，基本款大约为3.92亿卢布（未含增值税），而含五年质保和扩展服务的版本售价约为5.61亿卢布，生产周期为18个月。

Progress STP-350是可处理200毫米晶圆的投影式步进光刻机，具备350纳米的工艺分辨率，并能够在曝光区域内转移光掩模上的图案。相较于传统汞灯，这款设备采用固态激光器，旨在提高能源效率和功率输出。其产能为每小时63片150毫米晶圆，及每小时43片200毫米晶圆，这对批量生产至关重要。

350纳米工艺在全球电子产业中依然重要，广泛应用于汽车电子、工业控制和微机电系统等领域，尤其对俄罗斯而言，需求主要集中在成熟工艺的半导体元件上，对先进的计算芯片需求相对较小。

首位客户将建设约1500平方米的洁净室，并参与红外探测器的批量生产项目，为新光刻技术提供直接应用。光刻技术的复杂性使其成为半导体制造中难以复制的重要装备。全球市场由几家国家的公司主导，主要的光刻系统生产商包括日本的佳能、尼康以及荷兰的ASML。尽管Progress STP-350并不处于技术顶尖位置，但其上市为俄罗斯在光刻设备上的战略自主提供了可能。

未来的目标则是开发130纳米工艺，预计下一代国产光刻系统将在2027年投产，这将显著拓展俄罗斯在半导体领域的应用潜力。